VU-natuurkundige John Sheil ontvangt een Veni-beurs van NWO voor zijn onderzoeksproject ‘ARIES’. Sheil zal een laser-plasma simulatiecapaciteit ontwikkelen om het ontwerp van krachtigere en duurzamere EUV-bronnen voor nanolithografie van de toekomst te begeleiden. Dat meldt de Vrije Universiteit van Amsterdam.
Sheil werkt samen met verschillende medewerkers van Los Alamos Nationale Laboratory en het Lawrence Livermore Nationale Laboratory. De gegevens die hij zal verzamelen zullen dienen als input voor het tweede deel van ARIES. Daarin zal Sheil grootschalige stralings-hydrodynamische modellering uitvoeren van nieuwe EUV-bronplasmaconcepten. Deze concepten worden verhit door vaste stof lasers bij een golflengte van 2-micron.
Duurzamere EUV-bronnen
De NWO heeft aan Sheil een Veni-financiering toegekend. Hiermee kan Sheil in de komende drie jaar zijn eigen onderzoek naar duurzamere EUV-bronnen verder ontwikkelen.
Door: Nationale Onderwijsgids
